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中国光刻机22纳米技术获重大突破
中国光刻机22纳米技术获重大突破 全球仅英特尔有量产
 
中国的22纳米技术——4年前,这会被看做是天方夜谭。然而,中科院微电子所集成电路先导工艺研发中心团队实现重大突破,让这一梦想成真。到目前为止,全球也只有英特尔公司在22纳米技术代实现了大规模生产
 
注:目前世界最先进实用化光刻机纳米技术----16纳米技术美国的.正在研制大约12纳米技术.中国实用22纳米,跨越研12纳米,难度很大.
 
光刻机是中国中芯半导体,台湾台积电,韩国三星等半导体晶圆代工大厂的核心设备.由于先进光刻机技术主要在欧美日手上

 

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